氮氧化硅薄膜红外吸收特性的研究

• 作者: 刘卫国 刘欢 周顺 蔡长龙
• 来源期刊: 兵工学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 光学 薄膜 氮氧化硅 红外吸收 等离子体增强化学气相沉积
• 年，卷（期）: 2011,（10）
• 页码范围: 1255-1259
• 分类号: O433.4
• 字数: 3671字
• 语种: 中文

摘要

利用等离子体增强化学气相沉积法沉积氮氧化硅(SiOxNy)薄膜,通过X射线光电子能谱仪、傅里叶变换红外光谱仪、椭偏仪等表征技术,研究不同N2O与NH3流量比R条件下薄膜的组分、光学常数及红外吸收特性.研究结果表明:随着流量比R的增加,SiOxNy薄膜中O的相对百分含量提高,N含量降低,而Si含量基本不变；薄膜由于Si-O、Si-N键形成的吸收峰峰值波长向短波(高波数)移动,变化范围为11.6 μm(波数860 cm -1)～9.4 μm(波数1 063 cm-),且吸收峰的宽度先增大后减小.此外,薄膜的折射率与薄膜中H含量也随流量比R的增加而降低.相比于SiOx,SiNx薄膜,组分特定的SiOxNy薄膜的吸收峰最宽且在长波红外窗口8～12 μm内吸收强度最大,说明SiOxNy薄膜是一种良好的热探测器选择吸收层材料.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘卫国	西安电子科技大学微电子学院	112	575	12.0	17.0
3	蔡长龙	西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室	82	319	8.0	14.0
4	刘欢	西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室	19	73	6.0	7.0
5	周顺	西安电子科技大学微电子学院	32	113	6.0	8.0