氮化钛阻挡层化学机械抛光液的研究

• 作者: 孙守梅
• 来源期刊: 电子设计工程
• 学科: 工学
• 关键词: 化学机械抛光 阻挡层 氮化钛 抛光液
• 年，卷（期）: 2011,（16）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 190-192
• 分类号: TN405.97|TN305.2
• 字数: 2293字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-6236.2011.16.067

摘要

为了解决Cu互连线污染和形成高阻铜硅化物以及Cu与SiO2粘附性差等问题,提出增加扩散阻挡层的解决方案。主要关于氮化钛阻挡层化学机械抛光的研究。分析了氮化钛的抛光机理,研究了氧化剂浓度及抛光液的pH对抛光速率的影响,最后配制了适合氮化钛阻挡层的碱性抛光液。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙守梅		3	7	2.0	2.0