溅射功率对Mo薄膜微结构和性能的影响

• 作者: 何智兵 唐永建 廖国 李俊 许华 谌加军 陈太红
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: 直流磁控溅射 Mo薄膜 溅射功率 表面形貌 X射线衍射
• 年，卷（期）: 2011,（9）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 2386-2390
• 分类号: O484
• 字数: 3289字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/HPLPB20112309.2386

摘要

实验采用直流磁控溅射沉积技术在不同溅射功率下制备Mo膜,研究了不同溅射功率下Mo膜的沉积速率、表面形貌及晶型结构,并对其晶粒尺寸和应力进行了研究.利用原子力显微镜观察样品的表面形貌发现随着溅射功率的增加,薄膜表面粗糙度逐渐增大.X射线衍射分析表明薄膜呈立方多晶结构,晶粒尺寸为14.1～17.9 nm；应力先随溅射功率的增大而增大,在40 W时达到最大值(2.383 GPa),后随溅射功率的增大有所减小.