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摘要:
为了解决SOI技术的ESD问题,我们设计了一种适用于部分耗尽SOI的栅控二极管结构的ESD保护电路,并进行了ESD实验.通过实验研究了SOI顶层硅膜厚度、栅控二极管的沟道长度和沟道宽度,限流电阻以及电火花隙等因素对保护电路抗ESD性能的影响,我们发现综合考虑这些因素,就能够在SOI技术上获得良好的抗ESD性能.
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文献信息
篇名 部分耗尽SOI ESD保护电路的研究
来源期刊 电子器件 学科 工学
关键词 绝缘衬底上的硅 静电放电 栅控二极管 人体放电模型
年,卷(期) 2012,(2) 所属期刊栏目 电子电路设计分析及应用
研究方向 页码范围 208-211
页数 分类号 TN432
字数 3066字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1005-9490.2012.02.021
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 韩郑生 中国科学院微电子研究所 122 412 10.0 12.0
2 汤仙明 1 1 1.0 1.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
绝缘衬底上的硅
静电放电
栅控二极管
人体放电模型
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子器件
双月刊
1005-9490
32-1416/TN
大16开
南京市四牌楼2号
1978
chi
出版文献量(篇)
5460
总下载数(次)
21
总被引数(次)
27643
论文1v1指导