双靶磁控溅射沉积Cu-W薄膜组织结构特征及其演变

• 作者: 傅臻 周灵平 彭坤 朱家俊 李周 汪明朴
• 来源期刊: 中国有色金属学报（英文版）
• 关键词: Cu-W薄膜 溅射沉积 非晶相 层状结构 固溶度 Vegard规则
• 年，卷（期）: 2012,（11）
• 页码范围: 2700-2706
• 页数: 7页
• 字数: 743字
• 语种: 英文
• DOI: 10.1016/S1003-6326(11)61520-3

摘要

采用双靶磁控溅射沉积Cu-W合金薄膜,通过XRD、TEM和HRTEM等方法分析沉积薄膜组织结构及其演变规律.在沉积初期,Cu-W薄膜呈非晶态,随着沉积过程的进行,在溅射粒子的轰击下已沉积薄膜逐渐晶化并形成类调幅结构,从而在沉积完成的微米级Cu-W薄膜中呈现表层为非晶态、底层为晶态的层状结构.采用Vegard规则对类调幅结构的固溶度进行计算,Cu-13.7％W薄膜是由固溶度分别为11％W和37％W的Cu(W)固溶体及纯Cu相组成；Cu-14.3％W薄膜是由固溶度分别为15％W和38％W的Cu(W)固溶体及纯Cu相组成；Cu-18％W薄膜是由固溶度分别为19％W和36％W的Cu(W)固溶体及纯Cu相组成.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李周	中南大学材料科学与工程学院	138	1258	18.0	27.0
2	周灵平	中南大学材料科学与工程学院	48	322	11.0	16.0
4	彭坤	湖南大学材料科学与工程学院	36	254	8.0	15.0
5	汪明朴	中南大学材料科学与工程学院	145	1534	19.0	30.0
7	朱家俊	湖南大学材料科学与工程学院	28	127	6.0	10.0
12	傅臻	中南大学材料科学与工程学院	3	11	2.0	3.0