Mo靶材组织对溅射薄膜形貌及性能的影响

• 作者: 刘仁智 孙院军 安耿 李晶 王引婷 王快社
• 来源期刊: 稀有金属材料与工程
• 学科: 工学
• 关键词: 钼靶材 溅射薄膜 形貌 方阻
• 年，卷（期）: 2012,（9）
• 所属期刊栏目: 材料科学
• 页码范围: 1559-1563
• 页数: 5页
• 分类号: TG146.4+13
• 字数: 2608字
• 语种: 中文

摘要

将4种组织差异较大的钼靶材在同一溅射设备,同一溅射工艺下进行磁控溅射试验,对溅射后的靶材表面及薄膜表面、截面形貌及方阻进行检测,讨论并分析靶材微观组织对溅射过程及薄膜形貌、晶向、导电性能的影响.结果表明,不同组织靶材溅射的薄膜表面及截面形貌差异较小；靶材80％的晶粒尺寸小于50 μm时,溅射薄膜沉积速率较快,方阻值的变化较小,薄膜厚度较均匀；钼靶材溅射薄膜的择优均为(110)取向,靶材组织对溅射薄膜的取向影响不大；靶材组织的晶粒均匀细小,晶界所占面积率越大,靶材减薄越均匀,靶材利用率越高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王快社		190	1442	20.0	25.0
2	孙院军		25	267	9.0	15.0
3	李晶		32	150	7.0	10.0
4	刘仁智		46	221	7.0	11.0
6	王引婷		6	46	3.0	6.0
7	安耿		37	186	7.0	11.0