生长温度对分子束外延A1N薄膜的影响

• 作者: 刘帆 李瑶 苑进社 蒋一翔 邹祥云 郑显通
• 来源期刊: 重庆理工大学学报：自然科学
• 学科: 工学
• 关键词: 分子束外延 A1N RHEED AFM XRD
• 年，卷（期）: 2012,（5）
• 所属期刊栏目: 电子·自动化
• 页码范围: 66-69
• 页数: 4页
• 分类号: TM23
• 字数: 2149字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-8425-B.2012.05.016

摘要

研究了不同生长温度对分子束外延设备在蓝宝石衬底上外延A1N薄膜时对薄膜样品晶体质量和表面形貌的影响。研究发现：随着生长温度的提高，RHEED条纹更加纤细、更加细锐；在低温下，A1N表面有密集的小岛状晶粒结构，但随着温度的升高，小岛之间开始聚合，并形成大范围的原子力台阶，表明A1N薄膜在高温下有良好的二维生长模式；（002）和（102）面XRD半高宽结果进一步表明A1N薄膜的二维生长模式，且在高温下，A1N薄膜中的刃型位错密度大大减小。说明提高生长温度有助于提高A1N薄膜的晶体质量，获得平坦的表面。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘帆	重庆师范大学物理与电子工程学院	5	8	1.0	2.0
2	苑进社	重庆师范大学物理与电子工程学院	20	32	3.0	4.0
3	李瑶	重庆师范大学物理与电子工程学院	3	0	0.0	0.0
4	郑显通	重庆师范大学物理与电子工程学院	2	0	0.0	0.0
5	蒋一翔	重庆师范大学物理与电子工程学院	1	0	0.0	0.0
6	邹祥云	重庆师范大学物理与电子工程学院	2	0	0.0	0.0