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摘要:
采用直流反应磁控溅射法在玻璃片上制备了TiN薄膜,研究不同制备工艺条件与薄膜性能之间的关系.用紫外-可见光分光光度计测试了不同沉积时间和N2流量条件下TiN薄膜透光率;用X射线衍射仪分析了不同N2流量和溅射功率条件下TiN薄膜结构;用扫描电镜(SEM)观察了TiN薄膜的表面腐蚀形貌,用恒电位仪对TiN薄膜的耐腐蚀性进行了分析.结果表明:当沉积时间为2 min,N2流量为15 mL/min时,在可见光区有较高的透光率,在近红外区的透光率很低;当N2流量为15 mL/min,溅射功率为4 kW时,TiN薄膜的结晶最致密;当溅射功率为4 kW时,TiN薄膜具有较好的耐腐蚀性.
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文献信息
篇名 直流磁控溅射法在玻璃基片上制备TiN薄膜
来源期刊 中国表面工程 学科 工学
关键词 TiN薄膜 直流反应磁控溅射 透光率 耐蚀性
年,卷(期) 2013,(2) 所属期刊栏目 表面工程研究
研究方向 页码范围 61-65
页数 分类号 TG174.444
字数 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1007-9289.2013.02.011
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 单玉桥 东北大学材冶学院 15 62 5.0 7.0
2 王英才 辽宁科技大学机械学院 8 14 2.0 3.0
3 王有欣 辽宁科技大学机械学院 10 24 2.0 4.0
4 毛明旭 辽宁科技大学机械学院 6 15 3.0 3.0
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研究主题发展历程
节点文献
TiN薄膜
直流反应磁控溅射
透光率
耐蚀性
研究起点
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相关学者/机构
期刊影响力
中国表面工程
双月刊
1007-9289
11-3905/TG
大16开
北京市丰台区杜家坎21号
82-916
1988
chi
出版文献量(篇)
2192
总下载数(次)
7
总被引数(次)
22833
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