磁控溅射法制备TiN/TiO2周期薄膜

• 作者: 刘莹 胡云龙
• 来源期刊: 中国表面工程
• 学科: 工学
• 关键词: TiN/TiO2 磁控溅射 周期薄膜 光催化
• 年，卷（期）: 2013,（2）
• 所属期刊栏目: 表面工程研究
• 页码范围: 56-60
• 分类号: TG174.444
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-9289.2013.02.010

摘要

采用直流反应磁控溅射法在Si(111)衬底上制备了不同周期数的TiN/TiO2周期薄膜.采用X射线衍射分析仪分析了薄膜的物相结构、原子力显微镜表征了薄膜的表面微观形貌,采用光催化降解甲基橙溶液来评价薄膜光催化性能.结果表明:所制备的TiN/TiO2周期薄膜结晶良好,薄膜由TiO2和TiN两种物相组成,TiO2均属于锐钛矿型.薄膜表面均匀致密,随着周期数的增加,薄膜表面粗糙度增加,1周期薄膜表面粗糙度(Ra)为1.652 nm,5周期则为4.339 nm,1周期薄膜均方根粗糙度(Rms)为2.138nm,5周期达5.738 nm.薄膜具有显著的光催化性能,随着周期数的增加,TiN/TiO2薄膜的光催化性能逐渐增强,5周期薄膜对甲基橙溶液的降解率达到74％.结晶良好、表面均匀致密的具有光催化性能的TiN/TiO2周期薄膜的制备,为高质量TiN/TiO2周期薄膜的制备提供了参考.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘莹	南昌大学机电工程学院	153	1424	18.0	30.0
2	胡云龙	南昌大学机电工程学院	2	13	2.0	2.0