CMP抛光液供给及分布系统的研究

• 作者: 周国安
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 化学机械平坦化 隔膜泵 蠕动泵 无轴承磁悬浮泵 抛光液
• 年，卷（期）: 2013,（6）
• 页码范围: 9-12,20
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.2
• 字数: 2708字
• 语种: 中文

摘要

从整体结构及硬件设计方面介绍了小批量生产及隔膜泵系统，分析隔膜泵的工作原理，循环机理及硬件控制和驱动电路，同时指出在湿度较大的生产厂里面产生的漂移及解决措施；从整体结构分析集中式抛光液供给系统，分析其抛光液混合中心具备的温度控制、无轴承磁悬浮泵工作机理及循环机制；对比隔膜泵与无轴承磁悬浮泵对颗粒凝聚的影响，并分析这种系统适用范围。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周国安	中国电子科技集团公司第四十五研究所	13	43	4.0	6.0