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摘要:
采用直流反应磁控溅射法制备品种层薄膜,研究O2/Ar气体分压比和退火温度对品种层结构和微观形貌的影响.通过化学水浴沉积,在预制有晶种层的薄膜上制备ZnO纳米阵列结构,研究不同前驱体浓度和预制晶种层对纳米阵列生长的影响.结果表明,当O2/Ar中O2分压减少,薄膜均匀性较差,当Ar分压增加薄膜由于扩散而趋于平整.退火温度增加,晶粒尺寸增大,内应力降低.磁控溅射法预制的晶种层上生长的纳米棒垂直于衬底生长,(002)晶面的衍射峰强最高,说明纳米棒沿c轴择优取向.生长液的浓度对纳米棒的形貌影响显著,随着生长液浓度的升高,ZnO纳米阵列直径增大,顶端趋于平整的六棱柱结构.
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文献信息
篇名 基于直流磁控溅射晶种层的ZnO纳米阵列的制备及性能研究
来源期刊 人工晶体学报 学科 物理学
关键词 直流磁控溅射 晶种层薄膜 纳米阵列 ZnO
年,卷(期) 2013,(11) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 2340-2345
页数 6页 分类号 O484.1
字数 2927字 语种 中文
DOI
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作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 丁雨田 兰州理工大学甘肃省有色金属新材料省部共建国家重点实验室 172 1117 15.0 22.0
2 王璟 兰州理工大学甘肃省有色金属新材料省部共建国家重点实验室 14 88 7.0 8.0
3 张增明 兰州理工大学甘肃省有色金属新材料省部共建国家重点实验室 8 35 4.0 5.0
4 张杨 兰州理工大学甘肃省有色金属新材料省部共建国家重点实验室 4 12 2.0 3.0
5 陈小焱 兰州理工大学甘肃省有色金属新材料省部共建国家重点实验室 5 34 4.0 5.0
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直流磁控溅射
晶种层薄膜
纳米阵列
ZnO
研究起点
研究来源
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研究去脉
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期刊影响力
人工晶体学报
月刊
1000-985X
11-2637/O7
16开
北京朝阳区红松园1号中材人工晶体研究院,北京733信箱
1972
chi
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38029
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