溅射功率对微纳米Nb膜性能影响机制研究

• 作者: 张高会 徐鹏 施远驰 李根
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: Nb 生物医学 磁控溅射功率 晶体结构 应力
• 年，卷（期）: 2014,（4）
• 所属期刊栏目: 功能薄膜
• 页码范围: 358-362
• 分类号: TG146.2
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2014.04.09

摘要

为了改善普通钛合金TC4的表面生物医学性能,采用磁控溅射的方法在TC4表面制备微纳米Nb薄膜,研究不同功率(46,98.5,144,205.8 W)对制备微纳米化Nb膜的沉积速率、晶体结构、晶粒尺寸、应力、表面形貌及表面硬度的影响规律.结果表明,在气压为0.5Pa、温度室温的情况下,溅射功率200W时,制备的Nb薄膜具有晶粒尺寸适当、应力小、表面粗糙度低和较高硬度等综合性能较好的特点.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张高会		12	129	4.0	11.0
2	李根		5	32	3.0	5.0
3	徐鹏		15	151	6.0	12.0
4	施远驰		2	4	1.0	2.0