化学机械抛光中化学作用和机械作用协同的实验研究

• 作者: 赵永武 陈晓春
• 来源期刊: 东华大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 化学机械抛光 化学作用 机械作用 协同
• 年，卷（期）: 2014,（5）
• 所属期刊栏目: 机械与制造工程
• 页码范围: 605-611
• 页数: 7页
• 分类号: TG115.5+8|O484.4
• 字数: 3683字
• 语种: 中文

摘要

借助现代实验仪器在微纳量级模拟化学机械抛光工况条件,采集摩擦界面的实时摩擦因数,研究单晶硅片化学机械抛光中的化学作用和机械作用的协同及相互影响关系.研究结果表明:在一定的化学机械抛光工艺条件下,去离子水和过氧化氢的化学作用及抛光正压力与滑划速度的机械作用对化学机械抛光的材料去除过程有着不同的影响.进一步分析研究获得了化学和机械作用协同的工艺参数条件:当抛光正压力为70 mN、滑划速度为8.00 mm/s时,抛光效果最优.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵永武	江南大学机械工程学院	117	687	12.0	21.0
2	陈晓春	江南大学机械工程学院	3	18	3.0	3.0