磁控溅射掺铜TiO2薄膜光学特性的分析

• 作者: 姚志强 林钰 田莉 胡斌 董林 辛荣生
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 Cu掺杂 TiO2薄膜 吸收限红移
• 年，卷（期）: 2014,（1）
• 所属期刊栏目: 功能薄膜
• 页码范围: 74-78
• 分类号: TQ134.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2014.01.15

摘要

采用射频/直流磁控共溅射法制备不同Cu掺杂量的氧化钛薄膜,研究了Cu掺杂对TiO2膜吸收边红移的影响,并探索其机理.发现当TiO2溅射功率为160 W,Cu溅射功率为30W时,TiO2薄膜的吸收边红移最为明显,至420 nm左右.X射线衍射(XRD)结果表明:500℃下退火处理得到的薄膜主要为锐钛矿相,但随着Cu掺量的提高,薄膜XRD衍射峰明显宽化,结晶性变差,将会在TiO2薄膜晶体中引入缺陷.X射线光电子谱结果表明:Cu以2+价存在,并掺杂进入TiO2晶格,引入受主杂质能级.结论认为Cu掺杂形成的缺陷能级和杂质能级是导致TiO2薄膜光吸收边拓展至可见光区域的原因.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	林钰	河南教育学院化学系	34	267	9.0	15.0
2	辛荣生	郑州大学材料科学与工程学院	27	246	9.0	14.0
3	胡斌	郑州大学材料科学与工程学院	19	55	4.0	7.0
4	姚志强	郑州大学材料科学与工程学院	3	10	2.0	3.0
5	田莉	郑州大学材料科学与工程学院	6	24	3.0	4.0
6	董林	郑州大学材料科学与工程学院	14	40	4.0	6.0