磁控溅射制备Ti-Zn-O复合薄膜及其光学性质研究

• 作者: 冯禹 朱明海 汪剑波 陈广彬 龚楠
• 来源期刊: 长春理工大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控溅射 掺杂 复合薄膜 禁带宽度
• 年，卷（期）: 2014,（1）
• 页码范围: 48-51
• 页数: 4页
• 分类号: O484.1
• 字数: 2624字
• 语种: 中文

摘要

TiO2是作为一种宽禁带半导体材料可作为紫外器件，但因其间接带隙结构、禁带宽度仅为3.0eV等特点，严重影响其应用范围。本文利用共溅射技术，通过Zn掺杂，在K9玻璃基底上制备了Ti-Zn-O复合薄膜，并研究了Zn溅射功率对其结构及光学性质的影响。结果显示：所制备的薄膜为ZnTiO3和不饱和TiO2的复合结构，随着Zn粒子的溅射能量增加，晶粒尺寸和表面粗糙度增加，并可将薄膜本征吸收边蓝移至3.61eV。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	汪剑波	长春理工大学理学院	24	81	6.0	8.0
2	龚楠	长春理工大学理学院	2	4	1.0	2.0
3	冯禹	长春理工大学理学院	2	4	1.0	2.0
4	朱明海	长春理工大学理学院	1	3	1.0	1.0
5	陈广彬	长春理工大学理学院	1	3	1.0	1.0