“光刻机”的概念、技术及其在专利文献中的分布

• 作者: 王晓东
• 来源期刊: 中国科技术语
• 学科: 地球科学
• 关键词: 光刻 光刻机 专利 IPC分类
• 年，卷（期）: 2014,（z1）
• 页码范围: 75-76,82
• 页数: 3页
• 分类号: N04|TN4|TN30S
• 字数: 2234字
• 语种: 中文

摘要

光刻机技术是大规模集成电路制造领域中的核心技术。文章介绍了光刻机的概念、结构及其简要技术发展历程，并列举和解释了光刻机技术领域的重点技术术语，此外，针对光刻机技术的专利文献查新检索，总结了光刻机技术在专利文献分类中的分布情况。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王晓东		6	3	1.0	1.0