磁控溅射沉积BCx薄膜的摩擦学性能

• 作者: 尚伦霖 张广安 王立平 蒲吉斌
• 来源期刊: 中国表面工程
• 学科: 工学
• 关键词: BCx薄膜 磁控溅射 靶电流 摩擦学性能
• 年，卷（期）: 2015,（5）
• 所属期刊栏目: 表面工程研究
• 页码范围: 16-23
• 分类号: TG174.444|TG115.58
• 语种: 中文
• DOI: 10.11933/j.issn.1007-9289.2015.05.003

摘要

探索具有优良摩擦学性能的BCx薄膜的制备方法具有重要意义,文中采用闭合场非平衡磁控溅射碳化硼靶和石墨靶(纯度均为99.9％)的方法,在38CrMoAl齿轮钢和Si(100)表面沉积BCx薄膜,利用场发射扫描电子显微镜(FESEM)、原子力显微镜(AFM)、拉曼光谱、纳米压入仪、CSM摩擦磨损试验机和X射线光电子能谱仪(XPS)分别分析了BCx薄膜的结构特征、力学性能和摩擦磨损性能,得到了石墨靶电流对碳化硼薄膜结构和性能的影响规律.结果表明:相同的沉积时间内,BCx薄膜的厚度随石墨靶电流的增加逐渐增大,硬度、弹性模量逐渐降低,微观形貌的柱状结构特征越来越明显;增加石墨靶电流可以提高BCx薄膜的摩擦学性能,当石墨靶电流为2.4A时,BCx薄膜的摩擦因数稳定在0.2左右,且具有最佳的耐磨性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王立平	中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室	57	810	15.0	27.0
2	张广安	中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室	29	137	7.0	10.0
3	尚伦霖	中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室	7	10	2.0	3.0
4	蒲吉斌	中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室	22	236	8.0	15.0