直流磁控溅射法制备 TiO2薄膜实验研究

• 作者: 蒋国林
• 来源期刊: 有色金属文摘
• 学科: 物理学
• 关键词: 直流磁控溅射 TiO2薄膜 退火温度
• 年，卷（期）: 2015,（4）
• 所属期刊栏目: 工程技术
• 页码范围: 86-87
• 页数: 2页
• 分类号: O484
• 字数: 2493字
• 语种: 中文

摘要

本文利用直流磁控溅射法在不同条件下制备玻璃基TiO2薄膜样品，并检测了薄膜的超亲水性。研究了沉积条件例如溅射总气压，氧气和氩气的相对分压，溅射功率，基片温度和后续热处理对TiO2薄膜最佳性能的影响。实验结果显示：在较低温度下沉积的TiO2薄膜是无定型且亲水性较差，然而，在400～500℃范围内退火过后，薄膜表面呈现超亲水性能。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒋国林	长沙有色冶金设计研究院有限公司	3	2	1.0	1.0