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双面光刻机运动控制系统设计分析
双面光刻机运动控制系统设计分析
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摘要：
针对双面光刻机运动控制需求，提出模块化的设计方案，重点分析了对准工作台PID 调节方法，实现了高动态响应、高精度运动控制。
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研究主题发展历程
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双面光刻机
运动控制
PID 控制
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期刊影响力
电子工业专用设备
主办单位：
中国电子科技集团公司第四十五研究所
出版周期：
双月刊
ISSN：
1004-4507
CN：
62-1077/TN
开本：
大16开
出版地：
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
邮发代号：
创刊时间：
1971
语种：
chi
出版文献量（篇）
3731
总下载数（次）
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10002
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