基于磁控溅射法显微CT W-Al透射靶材的制备及其性能研究

• 作者: 刘俊标 牛耕 霍荣岭 韩立 马玉田
• 来源期刊: 金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: 显微计算机断层成像 磁控溅射 透射靶材 W薄膜
• 年，卷（期）: 2015,（11）
• 页码范围: 1416-1424
• 页数: 9页
• 分类号: TB34
• 语种: 中文
• DOI: 10.11900/0412.1961.2015.00147

摘要

根据端窗透射Micro-CT靶材的理论模型设计了W-Al透射靶材的基本结构,结合Geant4计算模拟软件和Müller的靶温升计算模型分别确定了W靶面和Al基体的厚度.以YXLON光机的W-Al透射靶材结构参数为依据,采用磁控溅射法在Al基体表面分别制备了厚度为2,5和8μm的W薄膜,并借助SEM进行微观形貌分析,得到了致密度和均匀度均较好的W薄膜靶面.借助YXLON的X射线管,对3种不同厚度靶材的X射线出射率及其对应所需功率进行了实验研究,结果表明:W靶面的最佳厚度是5 μm,此时,靶材的X射线出射率最大且产生X射线所需的功率最小.在此基础上,进行了X射线出射率和X射线成像效果的对比实验,结果表明:无论在X射线出射率及其所需功率方面,还是在X射线成像效果方面,W靶面厚度为5 μm的W-Al透射靶材的性能均优于YXLON W-Al透射靶材,能够满足Micro-CT所需的高质量靶材的应用要求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘俊标	中国科学院电工研究所	45	181	8.0	11.0
2	韩立	中国科学院电工研究所	98	376	9.0	13.0
3	牛耕	中国科学院电工研究所	11	22	2.0	4.0
4	马玉田	中国科学院电工研究所	10	4	1.0	1.0
5	霍荣岭	中国科学院电工研究所	4	15	2.0	3.0