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等离子体刻蚀工艺模型研究进展
等离子体刻蚀工艺模型研究进展
作者:
于骁
周再发
李伟华
黄庆安
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
等离子体刻蚀
刻蚀模型
粒子方法
动力学方法
工艺模拟
摘要:
综述了等离子体刻蚀模型的研究进展,包括粒子方法模型和动力学模型的现状与进展.粒子方法模型主要介绍蒙特卡洛模型和结合蒙特卡洛模型的混合模型,动力学模型主要介绍反应位点模型、分子动力学模型和混合层动力学模型.在每种模型中,讨论了该模型的优缺点及应用范围.在此基础上,总结了过去刻蚀模型的发展历程,展望了等离子刻蚀模型的发展前景,对进行等离子刻蚀的建模分析具有参考意义.
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文献信息
篇名
等离子体刻蚀工艺模型研究进展
来源期刊
微电子学
学科
工学
关键词
等离子体刻蚀
刻蚀模型
粒子方法
动力学方法
工艺模拟
年,卷(期)
2015,(1)
所属期刊栏目
动态综述
研究方向
页码范围
94-99
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分类号
TN405
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节点文献
等离子体刻蚀
刻蚀模型
粒子方法
动力学方法
工艺模拟
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
微电子学
主办单位:
四川固体电路研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1004-3365
CN:
50-1090/TN
开本:
大16开
出版地:
重庆市南坪花园路14号24所
邮发代号:
创刊时间:
1971
语种:
chi
出版文献量(篇)
3955
总下载数(次)
20
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21140
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