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摘要:
制造技术的不断发展使集成电路工业已达到深亚微米级,以TSV技术为基础的三维集成电路解决了器件间互连线长度过长的问题,成为一种具有众多优势极具竞争力的技术。综述基于TSV的三维集成电路测试的新特点,阐述以TSV技术为中心的三维IC的优势,介绍适用于三维IC的测试方法,分类阐述实现此种新技术所需要解决的难题。
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三维集成电路
布局规划
热影响
利用率
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 三维集成电路测试方法
来源期刊 现代计算机:中旬刊 学科 工学
关键词 三维系统芯片 测试 形式验证 深亚微米 垂直硅通孔
年,卷(期) 2015,(11) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 32-35
页数 4页 分类号 TP333.7
字数 语种
DOI
五维指标
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
三维系统芯片
测试
形式验证
深亚微米
垂直硅通孔
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
现代计算机:中旬刊
月刊
1007-1423
44-1415/TP
广州市海珠区新港西路135号中山大学园B
46-205
出版文献量(篇)
9067
总下载数(次)
3
总被引数(次)
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