磁控溅射功率对光学氧化钒薄膜结构和性能的影响

• 作者: 张建鹏 张鹏宇 李园 杨明敏 黄美东
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 氧化钒 射频磁控溅射 溅射功率 结构和性能
• 年，卷（期）: 2015,（8）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 234-240
• 页数: 7页
• 分类号: O436
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL201542.0807001

摘要

采用射频磁控溅射法制备氧化钒(VOx)薄膜,研究溅射功率对氧化钒薄膜结构、光学及力学性能的影响.利用表面轮廓仪、X射线衍射仪、原子力显微镜、分光光度计、椭偏仪及纳米压痕仪分析在不同溅射功率下制备的氧化钒薄膜的沉积速率、物相结构、表面形貌、紫外-近红外光透射率、折射率、吸光度以及硬度和弹性模量.结果表明,各功率参数下沉积的氧化钒薄膜的光透射率基本都大于80％,属于弱吸收透明膜.随溅射功率的增大,薄膜的沉积速率、硬度和可见光范围内的折射率都单调增大,而表面粗糙度则出现先增大后减小的变化.溅射功率对薄膜的晶体结构也有一定的影响.