负偏压对磁控溅射制备Ru薄膜微结构、膜基结合力及耐蚀性能的影响

• 作者: 喻利花 薛雅平 许俊华 贺盛 郭丽萍 陈敏 鞠洪博
• 来源期刊: 江苏科技大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 Ru薄膜 负偏压 耐蚀性能
• 年，卷（期）: 2016,（5）
• 所属期刊栏目: 材料与焊接工程
• 页码范围: 430-434
• 页数: 5页
• 分类号: TQ174
• 字数: 4475字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-4807.2016.05.004

摘要

采用磁控溅射法在Mo衬底上制备了不同负偏压的Ru薄膜，利用XRD、台阶仪、XPS、AFM、纳米划痕仪和电化学工作站对薄膜相结构、表面形貌、膜基结合力以及腐蚀电化学性能进行了研究．结果表明：当负偏压在0～100 V时，薄膜六方结构（hcp），具有（002）择优取向．随负偏压的升高，薄膜中出现面心立方（fcc）RuO2相，此时薄膜两相共存，即hcp－Ru＋fcc－RuO2．薄膜表面粗糙度随负偏压的升高先降低后升高，当负偏压为100 V 时，薄膜表面粗糙度最低，其最低值为0.639 nm．薄膜的膜基结合力及在3.5％NaCl溶液中的耐蚀性能先升高后降低，当负偏压为100 V时，膜基结合力及耐蚀性能最佳．

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	许俊华	江苏科技大学材料科学与工程学院	60	269	9.0	13.0
2	喻利花	江苏科技大学材料科学与工程学院	58	246	8.0	12.0
3	鞠洪博	江苏科技大学材料科学与工程学院	17	35	4.0	5.0
4	贺盛	江苏科技大学材料科学与工程学院	2	4	2.0	2.0
5	薛雅平	江苏科技大学材料科学与工程学院	4	10	2.0	3.0
6	陈敏		1	2	1.0	1.0
7	郭丽萍		1	2	1.0	1.0