多靶磁控溅射镀膜设备及其特性

• 作者: 佘鹏程 张赛 彭立波 毛朝斌 胡凡 陈庆广 陈特超
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 溅射靶 离子源
• 年，卷（期）: 2016,（6）
• 页码范围: 32-36,44
• 页数: 6页
• 分类号: TN305
• 字数: 2194字
• 语种: 中文

摘要

介绍了一种多靶磁控溅射镀膜设备，阐述了镀膜室、工件台、阴极溅射靶、辅助离子源、真空系统等关键部件的设计思想。镀膜工艺结果显示，设备满足工艺要求，膜层均匀性优于±3%。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈特超	中国电子科技集团公司第四十八研究所	21	38	3.0	5.0
2	胡凡	中国电子科技集团公司第四十八研究所	4	5	2.0	2.0
3	佘鹏程	中国电子科技集团公司第四十八研究所	6	6	1.0	1.0
4	彭立波	中国电子科技集团公司第四十八研究所	7	5	2.0	2.0
5	张赛	中国电子科技集团公司第四十八研究所	3	2	1.0	1.0
6	陈庆广	中国电子科技集团公司第四十八研究所	4	2	1.0	1.0