纳米尺度HfO2薄膜的光谱椭偏模型建立

• 作者: Fu Weien Kim Changsoo Yasushi Azuma 任玲玲 刘小萍 张寅辉 贾亚斌 高慧芳
• 来源期刊: 计量学报
• 学科: 工学
• 关键词: 计量学 HfO2超薄膜 纳米尺度 光谱椭偏模型 掠入射X射线反射技术
• 年，卷（期）: 2017,（5）
• 页码范围: 548-552
• 页数: 5页
• 分类号: TB921
• 字数: 2664字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-1158.2017.05.06

摘要

为了建立厚度为1 nm左右HfO2超薄膜的光谱椭偏测量方法,采用掠入射X射线反射技术进行国家/地区实验室间比对认证,其膜厚准确量值作为参比值,建立了HfO2超薄膜的光谱椭偏结构拟合模型.研究了HfO2超薄膜的光谱椭偏色散模型和拟合参数,最后确定了拟合色散模型为Tauc-Lorentz 3,拟合光谱范围为3.45～4.35 eV,表面污染层孔隙比例为60∶40.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘小萍		56	248	8.0	12.0
2	任玲玲		35	122	6.0	9.0
3	张寅辉		2	0	0.0	0.0
7	高慧芳		11	24	3.0	4.0
8	贾亚斌		8	40	3.0	6.0