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摘要:
溅射镀膜作为薄膜混合集成电路的重要环节,在厂商要求保证工艺质量的前提下,希望提高设备的自动化程度,减少靶间污染.介绍了一种用于磁控溅射镀膜设备,着重介绍了该系统关键部件溅射镀膜腔室和真空机械手腔室;该系统结构简单,控制效果良好,通过对工艺的研究,该系统能满足生产线的生产要求.
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采用磁控溅射镀膜技术改善封隔器防腐性能
封隔器
磁控溅射
耐蚀性能
防腐
镀镆
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 全自动磁控溅射镀膜设备及工艺的研究
来源期刊 电子工业专用设备 学科 工学
关键词 磁控溅射 磁控溅射靶 机械手
年,卷(期) 2018,(1) 所属期刊栏目 半导体制造工艺与设备
研究方向 页码范围 21-24
页数 4页 分类号 TN305
字数 1500字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1004-4507.2018.01.006
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 陈特超 中国电子科技集团公司第四十八研究所 21 38 3.0 5.0
2 毛朝斌 中国电子科技集团公司第四十八研究所 13 11 2.0 2.0
3 罗超 中国电子科技集团公司第四十八研究所 7 2 1.0 1.0
4 范江华 中国电子科技集团公司第四十八研究所 3 2 1.0 1.0
5 佘鹏程 中国电子科技集团公司第四十八研究所 6 6 1.0 1.0
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磁控溅射
磁控溅射靶
机械手
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期刊影响力
电子工业专用设备
双月刊
1004-4507
62-1077/TN
大16开
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
1971
chi
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