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摘要:
针对区熔法高阻硅单晶的生长过程描述和基本特征,以晶体生长基本原理为基础,从生长机理与模型建立热传导模型(晶体内的热量传输模型和固液界面处的热量传输模型)、热对流模型(晶体表面与氩气之间的对流传热模型和熔体内的对流传热模型)热辐射模型等方面进行了阐述,并针对高品质区熔硅单晶生长提出了相应的研究思路和方法.
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文献信息
篇名 区熔硅单晶生长过程建模综述
来源期刊 电子工业专用设备 学科 工学
关键词 区熔法 硅单晶 过程建模
年,卷(期) 2018,(3) 所属期刊栏目 趋势与展望
研究方向 页码范围 7-9,31
页数 4页 分类号 TN304.053
字数 2486字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 云娜 中国电子科技集团公司第四十六研究所 4 5 1.0 2.0
2 庞炳远 中国电子科技集团公司第四十六研究所 13 17 3.0 3.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
区熔法
硅单晶
过程建模
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子工业专用设备
双月刊
1004-4507
62-1077/TN
大16开
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
1971
chi
出版文献量(篇)
3731
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31
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10002
论文1v1指导