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大容量抗辐射加固SRAM器件单粒子效应试验研究
大容量抗辐射加固SRAM器件单粒子效应试验研究
作者:
余永涛
冯发明
水春生
王小强
费武雄
陈毓彬
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
单粒子效应
大容量SRAM
抗辐射加固
Bulk CMOS工艺
SOI CMOS工艺
重离子射程
摘要:
针对宇航用大容量SRAM器件抗单粒子效应性能的试验评估需要,利用重离子加速器对抗辐射加固32 M Bulk CMOS工艺SRAM和16 M SOI CMOS工艺SRAM进行了单粒子效应模拟试验研究,获得SRAM器件单粒子效应特性并进行在轨翻转率预估;对单粒子翻转试验中重离子射程的影响,不同SEU类型的翻转截面差异,在轨翻转率预估的有关因素等进行了分析讨论.结果表明,这2款抗辐射加固SRAM器件都达到了较高的抗单粒子效应性能指标.试验结果可以为SRAM器件的单粒子效应试验评估提供参考.
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SRAM
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文献信息
篇名
大容量抗辐射加固SRAM器件单粒子效应试验研究
来源期刊
航天器环境工程
学科
工学
关键词
单粒子效应
大容量SRAM
抗辐射加固
Bulk CMOS工艺
SOI CMOS工艺
重离子射程
年,卷(期)
2018,(5)
所属期刊栏目
技术实践
研究方向
页码范围
462-467
页数
6页
分类号
V520.6|TN406
字数
3211字
语种
中文
DOI
10.12126/see.2018.05.010
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
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王小强
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费武雄
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余永涛
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陈毓彬
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水春生
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节点文献
单粒子效应
大容量SRAM
抗辐射加固
Bulk CMOS工艺
SOI CMOS工艺
重离子射程
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
航天器环境工程
主办单位:
北京卫星环境工程研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1673-1379
CN:
11-5333/V
开本:
大16开
出版地:
北京市朝阳区民族园路5号
邮发代号:
创刊时间:
1984
语种:
chi
出版文献量(篇)
2212
总下载数(次)
8
总被引数(次)
10138
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