共溅射法制备AZO薄膜及其光电性能的研究

• 作者: 何双赐 汪竞阳 钟志成 魏彦锋
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: AZO薄膜 共溅射 溅射功率 光电性能
• 年，卷（期）: 2018,（5）
• 所属期刊栏目: 表面强化及功能化
• 页码范围: 233-238
• 页数: 6页
• 分类号: TG174.442|O484
• 语种: 中文
• DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2018.05.036

摘要

目的 研究Al靶直流溅射功率对Al掺杂ZnO(AZO)薄膜光电性能的影响.方法 以金属Al和ZnO陶瓷作为靶材,采用直流与射频双靶磁控共溅射的方法,在玻璃基片上制备AZO薄膜.通过改变Al靶直流溅射功率,获得不同的薄膜.采用X射线衍射仪(XRD)、光电子能谱仪(XPS)、原子力显微镜(AFM)、紫外-可见分光光度计(UV-Vis)、四探针测试仪,对薄膜的微观形貌结构及光电性能进行表征和分析.结果 所制备的AZO薄膜均具有C轴取向生长的六角纤锌矿结构,在可见光区域平均透过率超过90％,AZO薄膜的吸收边相比于ZnO薄膜出现了蓝移.当Al靶溅射功率为18 W时,AZO薄膜的最低电阻率为2.49×10-3?·cm,品质因子为370.2 S/cm.结论 Al直流溅射功率对AZO薄膜光电性能的影响较大,溅射功率为18 W时,制备的AZO薄膜性能最优.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	何双赐	武汉科技大学材料与冶金学院	2	1	1.0	1.0
5	钟志成	湖北文理学院物理与电子工程学院	16	29	3.0	5.0
6	魏彦锋	湖北文理学院物理与电子工程学院	4	1	1.0	1.0
7	汪竞阳	湖北文理学院物理与电子工程学院	9	6	1.0	2.0