基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取       
摘要:
基于瞬时电流模型,采用双-双指数电流源法,在 65 nm工艺节点集成电路基本单元中开展了单粒子效应的电路级仿真.采用器件/电路混合仿真的方式,提取瞬时电流特征参数,在目标电路敏感节点插入内建电流源表征单粒子效应对电路的影响;对组合逻辑电路中产生的单粒子瞬态脉冲及存储单元的单粒子翻转效应进行了电路级仿真计算,并将计算结果与用TCAD模型计算的结果进行了对比检验.结果表明:双-双指数电流源法可对不同驱动能力和不同负载条件下的基本单元电路进行仿真,且易于向大规模电路进行推广,在空间单粒子软错误评估中具有应用价值.
推荐文章
CMOS抗辐射加固集成电路单粒子效应仿真研究进展
CMOS集成电路
单粒子效应
仿真
抗辐射加固
交叉隔离
错误猝熄
CMOS器件SEL效应电路级防护设计及试验验证
CMOS器件
单粒子闭锁效应
防护电路
脉冲激光
纳米级CMOS集成电路的单粒子效应及其加固技术
集成电路
纳米级
单粒子效应
抗辐射加固
SOI CMOS SRAM单元单粒子翻转效应的模拟
单粒子翻转
双指数模型
器件模拟
部分耗尽绝缘体上硅
静态随机存储器
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
(/次)
(/年)
文献信息
篇名 基于双-双指数电流源法的CMOS电路单粒子效应电路级仿真
来源期刊 现代应用物理 学科 工学
关键词 单粒子效应 双指数电流源 单粒子瞬态脉冲 电路级仿真 软错误
年,卷(期) 2019,(4) 所属期刊栏目 辐射效应及加固技术
研究方向 页码范围 65-70
页数 6页 分类号 TN406
字数 2824字 语种 中文
DOI 10.12061/j.issn.2095-6223.2019.040601
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 罗尹虹 54 199 8.0 10.0
2 郭红霞 81 385 10.0 13.0
3 丁李利 12 26 3.0 4.0
4 赵雯 10 25 3.0 4.0
5 王坦 1 0 0.0 0.0
6 潘霄宇 2 3 1.0 1.0
传播情况
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献  (0)
共引文献  (0)
参考文献  (8)
节点文献
引证文献  (0)
同被引文献  (0)
二级引证文献  (0)
1982(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2004(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2005(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2007(2)
  • 参考文献(2)
  • 二级参考文献(0)
2013(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2015(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2017(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2019(0)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(0)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
单粒子效应
双指数电流源
单粒子瞬态脉冲
电路级仿真
软错误
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
现代应用物理
季刊
2095-6223
61-1491/O4
大16开
西安市69信箱15分箱
2010
chi
出版文献量(篇)
533
总下载数(次)
1
总被引数(次)
594
论文1v1指导