氧氩比对ZnO薄膜微观结构及光电特性的影响

• 作者: 付宏远 孙艳艳 张猛 王辉 赵洋
• 来源期刊: 河南科技大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: ZnO 磁控溅射 氧氩比 光电学特性 薄膜结构
• 年，卷（期）: 2019,（6）
• 所属期刊栏目: 数理科学
• 页码范围: 80-83,88
• 页数: 5页
• 分类号: TB43
• 字数: 3217字
• 语种: 中文
• DOI: 10.15926/j.cnki.issn1672-6871.2019.06.014

摘要

采用JGP300型超高真空磁控溅射系统,在蓝宝石(Al2O3)、p-Si和氧化铟锡(ITO)导电玻璃衬底上制备了ZnO薄膜.使用X射线衍射仪(XRD)、紫外分光光度计(UV)、原子力显微镜(AFM)分析了氧氩比对ZnO薄膜晶体结构、光学特性和表面形貌的影响.测试结果表明:ZnO薄膜均为单一六方纤锌矿结构,且均表现出c轴择优取向.随着氧氩比的减小,ZnO(002)衍射峰强度增大,衍射峰半高宽(FWHM)减小.氧氩比为1:4条件下制备的ZnO薄膜结晶质量较好.随着氧氩比的增大,ZnO薄膜表面粗糙度先增大后减小.在可见光范围内(波长400～700 nm),氧氩比为3:2条件下制备的ZnO薄膜,平均透过率超过70％.