薄膜厚度对ZnO∶Y薄膜结构及光电特性影响

• 作者: 宋淑梅 李延辉 杜桂强 杨田林 辛艳青 韩圣浩
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控溅射 ZnO∶Y薄膜 电阻率 透过率
• 年，卷（期）: 2012,（5）
• 页码范围: 1190-1194
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 2446字
• 语种: 中文

摘要

室温下采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备出了具有良好附着性、低电阻率和高透过率的新型ZnO∶Y (ZnO掺杂Y2O3,简称ZnO∶Y)透明导电薄膜.研究了薄膜厚度对ZnO∶Y薄膜结构、光电特性的影响.结果表明:不同厚度的ZnO∶Y薄膜均为多晶薄膜,具有ZnO六角纤锌矿结构,最佳取向为(002)方向.随薄膜厚度增加,其电阻率减小,当薄膜厚度增至800 nm时,其电阻率为8.36×10-4 Ω·cm,迁移率为15.3 cm2 ·V-1 ·s-1,载流子浓度为4.88×1020 cm-3.不同厚度的薄膜在可见光范围内平均透过率均为90％以上,当薄膜厚度从200 nm增加到800 nm时,薄膜禁带宽度从3.68 eV减小到3.61 eV.