兆声辅助化学机械抛光中振动对抛光液流动的影响

• 作者: 任奕 何勍 李亮 李小龙
• 来源期刊: 科学技术与工程
• 学科: 工学
• 关键词: 兆声 振子 化学机械抛光 抛光液 硅片 粗糙度 贝赛尔函数
• 年，卷（期）: 2019,（3）
• 所属期刊栏目: 一般工业技术
• 页码范围: 79-84
• 页数: 6页
• 分类号: TB559
• 字数: 3407字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-1815.2019.03.013

摘要

为了将兆声引入化学机械抛光,进一步提高抛光效率,深入研究了化学机械抛光中兆声对抛光液流动的影响.首先测试抛光头工作表面的轴向振幅,再观察兆声致抛光液流动现象,最后对抛光头中声场和兆声致流场进行理论分析.利用流体力学理论分析讨论兆声致抛光液流动的机理.测试结果表明:抛光头工作表面振动频率为1. 7 MHz,振幅沿径向减小并伴有振荡,中心处最大振幅接近70 nm,这与计算结果基本一致.兆声致抛光液流动实验表明:兆声能有效激励抛光液使其从抛光垫微孔中涌出,涌出量逐渐增大,但流量逐渐减小,渐近至零.这一结果可由兆声致流场给出解释:兆声振子表面轴向振幅被贝赛尔函数调制,这种振动沿轴向传至抛光液,产生随坐标和时间变化的流场;流量随时间的涨落和不同区域间的流量差,造成抛光液在抛光垫微孔间交互流动.可见,这种兆声致抛光液流动,能有效提高抛光液利用率、改善抛光效果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	何勍	辽宁工业大学振动工程研究所	46	78	5.0	6.0
2	李亮	辽宁工业大学振动工程研究所	10	9	2.0	2.0
6	任奕	辽宁工业大学振动工程研究所	5	7	2.0	2.0
7	李小龙	辽宁工业大学振动工程研究所	3	2	1.0	1.0