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衬底温度对磁控溅射氮化钛薄膜质量的影响
衬底温度对磁控溅射氮化钛薄膜质量的影响
作者:
韩以恒
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
磁控溅射技术
TIN薄膜
NACL
摘要:
本文采用磁控溅射技术,通过改变沉积温度在玻璃衬底上制备了一系列TiN薄膜。利用XRD进行了物相鉴定,使用分光光度计、椭圆偏振光谱仪和四探针电阻仪测试了TiN薄膜的光学性能。结果表明:制备的TiN薄膜为多晶态立方结构TiN,且随着衬底温度的升高,薄膜结晶性提高,折射率减小,消光系数升高。
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综述
直流磁控溅射钛及钛合金薄膜的性能研究
钛
薄膜制备
磁控溅射
内容分析
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内容分析
关键词云
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文献信息
篇名
衬底温度对磁控溅射氮化钛薄膜质量的影响
来源期刊
读天下(综合)
学科
社会科学
关键词
磁控溅射技术
TIN薄膜
NACL
年,卷(期)
2019,(22)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
0268-0268
页数
1页
分类号
G
字数
语种
DOI
五维指标
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韩以恒
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读天下:综合
主办单位:
吉林省舆林报刊发展有限责任公司
出版周期:
周刊
ISSN:
2095-2112
CN:
22-1401/G2
开本:
出版地:
长春市人民大街4646号
邮发代号:
创刊时间:
语种:
出版文献量(篇)
33534
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177
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