基于GDOES分析的磁控溅射制备钛膜工艺优化

• 作者: 占勤 杨洪广 窦志昂
• 来源期刊: 材料热处理学报
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 钛膜 密度 扩散层 辉光放电发射光谱(GDOES)
• 年，卷（期）: 2020,（8）
• 所属期刊栏目: 材料表面改性
• 页码范围: 121-127
• 页数: 7页
• 分类号: TG174.44
• 语种: 中文
• DOI: 10.13289/j.issn.1009-6264.2020-0192

摘要

采用辉光放电发射光谱(GDOES)测试分析方法研究了磁控溅射功率、工作气压、基片温度等工艺参数对钛膜厚度、密度、扩散层的影响.结果 表明,在0.2Pa工作气压条件下,在100～300 W范围内溅射功率与沉积速率呈近似线性关系;在溅射功率200W条件下,工作气压在0.2～0.7 Pa范围内的沉积速率较为稳定,约为16 nm/min,而增大工作气压将显著降低钛膜密度,工作气压0.2 Pa对应的钛膜密度达到4.47 g/cm3,而0.7 Pa对应的钛膜密度仅为3.26g/cm3;基片温度显著影响了钛膜与钼基片之间的扩散层厚度,在溅射功率200W、工作气压0.2 Pa条件下镀膜300 min,基片温度100℃下的扩散层厚度为487 nm,250℃下则达到814 nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨洪广		37	64	4.0	7.0
2	占勤		13	33	2.0	5.0
3	窦志昂		1	0	0.0	0.0