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电子工业专用设备2008年第10期出版文献
出版文献量（篇）
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总被引数（次）
10002
电子工业专用设备
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Equipment for Electronic Products Manufacturing
影响因子
0.2109
本刊为国内外公开发行的技术性刊物，以报道半导体设备及半导体产业链技术与材料为主要方向，以“公布新的科技成就，传播科技信息，交流学术思想，促进科技成果的商品化、产业化，为建设社会主义精神文明与物质文明服务”为本刊的为刊方针。发挥传媒优势，全方位服务于微电子行业的广大科技工作者。
主办单位：
中国电子科技集团公司第四十五研究所
期刊荣誉：
2001~2002年度标准化规范化部级奖
获2003~2004年度出版质量部级奖
ISSN：
1004-4507
CN：
62-1077/TN
出版周期：
双月刊
邮编：
100029
地址：
出版文献量（篇）
3731
总下载数（次）
31
总被引数（次）
10002
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刊名： 电子工业专用设备发表期刊： 2008年10期页码:摘要： 介绍一种以显微镜结构为基础的浸没式阵列激光扫描直写光刻系统的光路结构、有效焦深、自动调焦及曝光能量控制的原理和方法.实验系统的有效数值孔径(ENA)为1.83,使用的激光波长为355 mm时...
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刊名： 电子工业专用设备发表期刊： 2008年10期页码:摘要： 基于扫描电镜(SEM)的纳米级电子束曝光系统能够以较低成本满足科研单位对纳米加工设备的需求.在电子束曝光系统中,需要快速束闸控制电子束通断以实现纳米图像的多场曝光.从安装位置、机械结构和驱动...
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刊名： 电子工业专用设备发表期刊： 2008年10期页码:摘要： 随着器件特征尺寸的继续缩小,所需掩模的成本呈直线上升态势,为降低掩模成本,无掩模光刻技术成为人们研究的热点.介绍了一种基于DMD的步进式无掩模数字曝光方法,并对用于实现该曝光方法装置的设计方...
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4. EUV光刻技术的发展刊名： 电子工业专用设备发表期刊： 2008年10期页码:摘要： 介绍了半导体产业在制造极限的技术路线选择方面,下一代光刻技术-极紫外光刻设备面临的挑战及其开发和技术应用的进展现状.指出了在未来的22 nm技术节点极紫外光刻进入量产的可能性.
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刊名： 电子工业专用设备发表期刊： 2008年10期页码:摘要： 通过对双频激光干涉仪的原理、结构、双频产生机理进行分析,阐述激光干涉仪在光刻设备中的实际应用,探讨激光干涉仪技术.
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刊名： 电子工业专用设备发表期刊： 2008年10期页码:摘要： 分析了影响通孔填充性的因素,包括PCB的设计因素和波峰焊接工艺因素.其次运用试验设计方法研究了通孔填充性与众多因素的关系,对试验结果的方差分析表明影响通孔填充性的显著因子有PCB的板厚、锡炉...
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刊名： 电子工业专用设备发表期刊： 2008年10期页码:摘要： 分析了铜电连接在今后晶片制造中的主导作用,阐述了铜布线的结构,即在由钽作为阻挡层及采用电镀铜形成的电连接的情况下,抛光规律符合经典普莱斯顿方程:在粗抛磨料采用氧化铝,精抛配比采用武亚红提出的...
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刊名： 电子工业专用设备发表期刊： 2008年10期页码:摘要： 介绍等离子体化学气相淀积(PECVD)制备减反射钝化膜.将PECVD设备运用于太阳电池生产线上,发现通过PECVD设备可以对多晶硅太阳电池有很好的钝化效果.分析PECVD对多晶硅太阳电池钝化...
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9. 连续炉的制造实例刊名： 电子工业专用设备发表期刊： 2008年10期页码:摘要： 对于大批量生产和处理一致性以及精确控制的工艺要求,连续炉是理想的.详述了一些新式的连续炉温度和性能并介绍了一种不同元件组成的连续炉.根据炉子工艺技术,经济因素和零件质量因素的影响决定了是采用...
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刊名： 电子工业专用设备发表期刊： 2008年10期页码:摘要： FIB-SEM-Ar"三束"显微镜在FIB/SEM装置的平台上附加了降低样品损伤的低能Ar离子枪,首次实现了通过一台仪器完成高质量的透射电子显微镜TEM的样品制备.简化了样品整个加工的过程,...
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11. 地面光伏的发展刊名： 电子工业专用设备发表期刊： 2008年10期页码:摘要： 目前世界上能源消耗以化石燃料为主,化石燃料消耗所带来的能源供应危机以及环境污染,使人类社会可持续发展受到越来越重的压力.因此,新能源的推广应用已成为全球共识.太阳能地面光伏,这一重要的新能源...
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12. 国内要闻刊名： 电子工业专用设备发表期刊： 2008年10期页码:摘要：
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13. 国际要闻刊名： 电子工业专用设备发表期刊： 2008年10期页码:摘要：
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14. 公司与新品介绍刊名： 电子工业专用设备发表期刊： 2008年10期页码:摘要：
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15. 《电子工业专用设备》征订征稿启事刊名： 电子工业专用设备发表期刊： 2008年10期页码:摘要：
电子工业专用设备基本信息
| 刊名 | 电子工业专用设备 | 主编 | 赵璋 |
| 曾用名 | |||
| 主办单位 | 中国电子科技集团公司第四十五研究所 | 主管单位 | 中国电子科技集团 |
| 出版周期 | 双月刊 | 语种 |
chi
|
| ISSN | 1004-4507 | CN | 62-1077/TN |
| 邮编 | 100029 | 电子邮箱 | faith＿epe@sohu.net |
| 电话 | 010-64443110，64655251 | 网址 | www.chinaepe.com.cn |
| 地址 | 北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室 |
电子工业专用设备评价信息
期刊荣誉
| 1. | 2001~2002年度标准化规范化部级奖 |
| 2. | 获2003~2004年度出版质量部级奖 |
电子工业专用设备统计分析
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