EUV光刻技术的发展

• 作者: 《电子工业专用设备》编辑部
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 极紫外光刻 现状 光学系统 掩模 抗蚀剂 22nm技术节点
• 年，卷（期）: 2008,（10）
• 所属期刊栏目: 光刻技术与设备
• 页码范围: 20-27
• 页数: 8页
• 分类号: TN305.9
• 字数: 9699字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2008.10.004

摘要

介绍了半导体产业在制造极限的技术路线选择方面,下一代光刻技术-极紫外光刻设备面临的挑战及其开发和技术应用的进展现状.指出了在未来的22 nm技术节点极紫外光刻进入量产的可能性.