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微细加工技术2002年出版文献
出版文献量（篇）
672
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微细加工技术
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Microfabrication Technology
《微细加工技术》创刊于1983年，是国家科委和国家新闻出版署批准，国内外公开发行的中央级重要科技期刊。是国家一级检索刊物，已连续9年被美国工程信息公司Ei数据库收录，是《中国期刊网》、《中国学术期刊（光盘版）》、《中国学术期刊综合评价数据库》全文收录用刊，是《中国科学引文数据库》来源期刊。
主办单位：
中国电子科技集团公司第48研究所
期刊荣誉：
国家一级检索刊物用刊
美国工程信息公司Ei数据库收录
ISSN：
1003-8213
CN：
43-1140/TN
出版周期：
双月刊
邮编：
地址：
出版文献量（篇）
672
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2
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31. LIGA技术制作微反应器的研究刊名： 微细加工技术发表期刊： 2002年2期页码:摘要： 介绍了微反应器的基本原理,根据化学反应传质和传热的需求,对反应微管道的几何形状和尺寸进行了初步设计,并利用LIGA技术制作完成了一种用于催化反应的微反应器.
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2002年2期页码:摘要： 通过LIGA技术与微细电火花技术相结合,可以在硬质合金、不锈钢等材料上加工出微结构,这一新的方法必将拓宽微细加工的能力和应用范围.利用LIGA技术制备线宽70μm、厚度达730μm的铜工具电...
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33. 平面型场发射显示器的自聚焦效应刊名： 微细加工技术发表期刊： 2002年2期页码:摘要： 用有限差分法分析了平面型场发射显示器中的电场分布,给出了发射电子的运动轨迹,证明了在薄膜结构的平面阴极器件中存在自聚焦效应.聚焦效果取决于上电极宽度、上电极电压、阳极电压、以及阳极和上电极的...
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2002年3期页码:摘要： 微机械加工技术的发展为MEMS与微光学技术的结合应用提供了可能.MOEMS作为一个新兴的多学科交叉的研究领域正在兴起.着重介绍了建立在MEMS工艺基础上的MOEMS技术近年研究和开发取得的一...
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35. ASML公司光学光刻技术最新进展刊名： 微细加工技术发表期刊： 2002年3期页码:摘要： 荷兰ASML公司作为全球三大光刻机集成生产商之一,通过不断的技术创新,在全球光刻机市场上居于领先地位.在简单介绍光刻机基本工作原理和主要技术指标的基础上,详细分析了ASML公司在光学光刻技术...
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36. 电子束缩小投影曝光系统的掩模研究刊名： 微细加工技术发表期刊： 2002年3期页码:摘要： 介绍了用于电子束投影曝光系统中薄膜加散射体掩模的制备、性能和使用情况.
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37. 缩小投影电子束曝光系统的成像反差刊名： 微细加工技术发表期刊： 2002年3期页码:摘要： 结合原理说明了理想条件下的照明束与角度限制光阑可获得最佳成像反差,详细讨论了照明束与角度限制光阑处于非理想情况时对成像反差的影响及理想条件的调试方法.
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38. 电子束投影曝光装置实验结果分析刊名： 微细加工技术发表期刊： 2002年3期页码:摘要： 主要介绍了电子束缩小投影曝光机的工作原理及其特点,针对在原理论证机上做的实验,着重分析讨论了聚光镜电流的大小对曝光结果的影响.
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39. 带内孔平面多边形的并算法刊名： 微细加工技术发表期刊： 2002年3期页码:摘要： 电子束曝光机版图切割过程中可能出现带内孔的多边形,并且多边形内环与外环之间可能发生重叠.针对这种多边形,提出了新的基于矢量边的重复交点处理方法,并在此基础上给出了一个强健的多边形并算法.
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2002年3期页码:摘要： 介绍了用于电子束缩小投影曝光机的标记对准模拟软件及标记图形,模拟出标记对准的背散射信号,并与实际实验信号图形进行了对比.
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41. 底面对准曝光中的对准技术研究刊名： 微细加工技术发表期刊： 2002年3期页码:摘要： 主要论述了底面对准光刻机的对准原理、工件台结构以及对准标记的形式和尺寸的选择.
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2002年3期页码:摘要： UV-LIGA深度光刻技术是加工微型机电系统的一项重要的微细加工技术.介绍了一种平滑衍射效应的位错强度叠加原理,它采用了蝇眼积分透镜去平滑衍射,并模拟数值计算了硅片表面的光强分布,最后给出了...
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2002年3期页码:摘要： 套刻精度是步进式光刻机最重要的指标之一.从应用角度探讨了Nikon系列光刻机的对准方法,举例说明了众多对准标记在实际掩模版上的摆放原则.
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2002年3期页码:摘要： 从波粒二象性原理出发,研究了用氖原子束计算全息技术制作任意纳米结构的基本原理和方法,克服了用激光梯度场控制原子堆积,只能制作单一点、线等周期性纳米结构的不足.分析讨论了原子全息与光学全息的区...
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2002年3期页码:摘要： 碳纳米管具有很小的半径、较高的纵横比、高的柔软性能、独特的化学结构和确定的电子特性,这一系列性质使得它很适合用作原子力显微镜针尖.针尖的制作原先是手工操作,目前应用较广泛的是化学汽相沉积法(...
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46. 一种微型电磁继电器的制作和仿真刊名： 微细加工技术发表期刊： 2002年3期页码:摘要： 介绍一种基于MEMS技术的微型电磁继电器的制造工艺和仿真过程.这种微继电器主要由平面方形线圈、固定电极和活动电极构成,依靠线圈的激励电流来控制其开关动作.微继电器的大小约是4mm×4mm×0...
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2002年3期页码:摘要： 利用SIMOX材料制作智能卡是一种新的技术.简要介绍了一种智能卡的发展及应用,并描述了利用SOI(SIMOX)技术制作的一种新型智能卡芯片,概述了其优点,分析了现存的问题,并对这种芯片的发展...
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48. 场发射阵列发射性能下降机制分析刊名： 微细加工技术发表期刊： 2002年3期页码:摘要： 场发射阵列(FEA)发射性能的下降是场发射显示(FED)研究中普遍遇到的一个问题,研究FEA发射性能下降的机制对于推进FED进展具有重要意义.阴极氧化、溅射损伤和离子注入是目前提出的三种解释...
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49. 氮窑氧含量巡回检测分析仪程序设计刊名： 微细加工技术发表期刊： 2002年3期页码:摘要： 介绍了一种新型的氧含量检测设备及其程序设计.描述了该设备中使用的监控程序设计算法,该算法吸收并改进了多种流行的监控程序编写算法,实践表明,该算法用于复杂菜单设计时可节约编程时间,减少存储空间...
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50. 《微细加工技术》征订/征稿启事刊名： 微细加工技术发表期刊： 2002年3期页码:摘要：
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51. 超精细图案光刻技术的研究与发展刊名： 微细加工技术发表期刊： 2002年4期页码:摘要： 根据国内外研究和发展现状,对有望突破100nm超精细图案光刻分辨率的一些关键技术进行了阐述,其中包括曝光技术、掩模技术、光学系统改进和以离轴照明、相位移掩模、多重滤光和图形演算为代表的分辨率...
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52. 聚焦偏转复合系统像差分析及应用刊名： 微细加工技术发表期刊： 2002年4期页码:摘要： 介绍了以DX-3扫描电镜为基础,利用SDS-2电子束扫描系统改装其偏转系统.并给出了磁聚焦和静电的偏转场相复合情况下竖轴点源的三级几何像差系数和一级色差系数公式.应用中表明,复合系统结构简单...
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2002年4期页码:摘要：
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54. 束流测量中的工频陷波器刊名： 微细加工技术发表期刊： 2002年4期页码:摘要： 提出一种应用于电子束曝光机束流测量中的自动跟踪工频陷波器,给出电路结构,基于对其工作原理的分析,介绍了提高陷波器跟踪精度的设计要点及调试方法.
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2002年4期页码:摘要： 在一种新的电子束曝光机二次曲线单元图的基础上定义了一种中间图形数据格式.该数据格式是为了将版图制造业标准数据格式转换为电子束曝光机专用数据格式服务的.它采用Niklans Wirth的表示方...
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56. 缩小投影电子束曝光机的调试技术刊名： 微细加工技术发表期刊： 2002年4期页码:摘要： 详细介绍了在透射电镜上进行缩小投影电子束曝光技术原理性实验的主要调试过程.它充分利用了透射电镜本身的功能与特点.整个调试方法不仅可获得高分辨率图形,而且为下一步的研究工作提供了比较好的工作参...
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2002年4期页码:摘要： MEMS器件制作过程中,结构薄膜的应力和膜内的应力梯度必须进行严格的控制,因而对于LPCVD工艺有特殊的要求.应力测量一般要借助专门仪器进行,在不具备测量设备的情况下,可以利用光刻机来进行膜...
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2002年4期页码:摘要： 提出了采用相位扫描方法加工变栅距(VLS)光栅的基本原理,给出了VLS光栅刻划机的控制系统,并通过刻划实验对这一新方法进行了验证.
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59. 编者话刊名： 微细加工技术发表期刊： 2002年4期页码:摘要：
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60. 减小光刻中驻波效应的新方法研究刊名： 微细加工技术发表期刊： 2002年4期页码:摘要： 光刻过程中,抗蚀剂内部光敏混合物(PAC)浓度受光场的影响呈驻波分布,导致抗蚀剂显影后的侧壁轮廓成锯齿状.分析了后烘(PEB)对PAC浓度分布的影响,模拟了不同后烘扩散长度下的抗蚀剂显影轮廓...
微细加工技术基本信息
| 刊名 | 微细加工技术 | 主编 | |
| 曾用名 | |||
| 主办单位 | 中国电子科技集团公司第48研究所 | 主管单位 | |
| 出版周期 | 双月刊 | 语种 |
chi
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| ISSN | 1003-8213 | CN | 43-1140/TN |
| 邮编 | 电子邮箱 | ||
| 电话 | 网址 | ||
| 地址 | 湖南省长沙市 |
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