真空期刊
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真空

Vacuum
曾用名: 真空技术报导

CACSTPCD

影响因子 1.1128
本杂志是中国真空界主要杂志之一。自1994年真空杂志转换经营机制以来,由我国真空企业界实力雄厚的厂家与杂志社联办成立董事会,并由真空学术界著名学者组成编委会。社会效益与经济效益与日俱增,在国内真空界享有盛誉。自1989年公开发行以来,被美国、英国、德国、日本、意大利、韩国以及港澳地区越来越多的海外学者所关注。
主办单位:
中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所
期刊荣誉:
中国期刊网、光盘国家工程中心用刊  工程技术类核心期刊 
ISSN:
1002-0322
CN:
21-1174/TB
出版周期:
双月刊
邮编:
110042
地址:
辽宁省沈阳市万柳塘路2号
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  • 作者: 侯士敏 吴锦雷 张兆祥 张琦锋 张耿民 梁学磊 王晶云 申自勇 罗骥 薛增泉 赵兴钰 高崧
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年4期
    页码:  1-4
    摘要: 从实验和理论上研究单根碳纳米管(CNT)场发射电子源的稳定问题.利用透射电镜/扫描探针显微镜(TEM/SPM)和场发射显微镜/场离子显微镜(FEM/FIM)对CNTs的场发射特性进行了实验研...
  • 作者: 李晓伟 殷嗣杰 汪厚植 罗浪里 赵惠忠
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年4期
    页码:  5-8
    摘要: 以氧氯化锆和硝酸锰为主要原料,采用Sol-Gel-VFD技术制备了MnOx/ZrO2超细粉体材料.用XRD,TG-DSC,TEM和BET等技术对试样进行了表征,用微反应器-气相色谱仪在线研究...
  • 作者: 三宅正司 刁东风 松本武 蔡长龙
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年4期
    页码:  9-11
    摘要: 采用封闭式电子回旋共振(MCECR)等离子体溅射的方法在硅(100)基片上沉积了高质量的硬碳纳米微晶薄膜,膜层厚度约40 nm,采用氩等离子体溅射碳靶.薄膜的键结构采用X射线光电子能谱仪(X...
  • 作者: 何青 刘维一 周志强 孙云 朴英美 李凤岩 薛玉明
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年4期
    页码:  12-14
    摘要: 采用对向孪生靶溅射ZnO∶Al(ZAO)薄膜可减少等离子体对基底薄膜轰击损伤,沉积速率与结晶程度高;不同气压溅射的ZAO薄膜,其透光率在波长小于700 nm时基本相同,在可见光范围内(400...
  • 作者: 严一心 周顺
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年4期
    页码:  15-18
    摘要: 利用脉冲真空电弧离子镀技术在3Cr13不锈钢上制备了类金刚石(DLC)薄膜,通过Raman光谱分析了膜的结构特征,采用摩擦磨损试验机测试了薄膜在不同载荷下的摩擦系数,运用划痕仪研究了膜基的结...
  • 作者: 余圣发 彭传才 彭晶 李京增 胡云慧 魏敏
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年4期
    页码:  19-21
    摘要: 介绍了卷绕镀膜生产线中镀膜工艺的透过率在线监控仪原理与实现方法,同时描述了透过率监控仪在低辐射卷绕镀膜中的应用.
  • 作者: 张力 张发荣 薛钰芝
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年4期
    页码:  22-25
    摘要: 用热蒸发沉积和自然氧化法制备纳米量级的Al/Al2O3及Cr/Cr2O3薄膜和多层膜.本文采用三点法测定了常温、低温下的U- I特性,发现常温、低温下纳米量级的Al/Al2O3及Cr/Cr2...
  • 作者: 吴建生 吴海凤 程凡雄 董显平
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年4期
    页码:  26-28
    摘要: 利用X射线衍射分析技术结合差示扫描量热仪,研究了Zr在Co-Si合金非晶薄膜晶化和相变过程中的作用.结果表明:溅射态非晶Co-Si薄膜和Co-Si-Zr薄膜在加热到950℃的过程中,均主要析...
  • 作者: 刘亮 柳鹏 盛雷梅 范守善 魏洋 齐京
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年4期
    页码:  29-31
    摘要: 在静电鞍场规的基础上研制了一种碳纳米管(CNT)冷阴极鞍场规(SFG).这种冷阴极鞍场规具有电极尺寸小,吸放气率低,热效应低,功耗低的特点.本文首先计算了碳纳米管冷阴极鞍场规的电场分布,计算...
  • 作者: 卢少波 李晓勇 王远 米伦
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年4期
    页码:  32-34
    摘要: 由机械泵为前级泵,分子泵为主抽泵构成高真空系统,对高压开关管进行真空排气;由温度控制仪程序控制烘箱的升温和保温;通过充气系统对高压开关管进行充/放气来调节管内压力;用"高压开关管测试电源"进...
  • 作者: 党新安 卢裕 白晓峰
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年4期
    页码:  35-37
    摘要: 根据板栗真空爆壳工艺试验的研究及爆壳机对真空系统的工作要求,设计了水蒸汽喷射真空泵附设启动喷射泵的真空系统,并将喷射器乏汽用于爆壳过程的加热,使真空爆壳机具有运行稳定可靠,高效低耗等特点.
  • 作者: 刘东声 赵利君
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年4期
    页码:  38-40
    摘要: FD-110A分子泵电源是中科院北京科仪中心最新开发的直流分子泵电源.FD-110A分子泵电源使用现在最流行的51系列单片机作为控制器,采用专用开关电源为核心电源,利用单霍尔技术来驱动电机,...
  • 作者: 李旭春 李清源 甘小杰
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年4期
    页码:  41-44
    摘要: 介绍了一种用于真空镀膜的等离子溅射高频PWM电源,并对其硬件电路包括主电路和控制电路的设计、软件程序开发及电源设计中的系统抗干扰等问题进行了阐述.
  • 作者: 张俊峰 章学华 韩锐 马学焕
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年4期
    页码:  45-48
    摘要: 介绍了一种用于高温保护的真空杜瓦,该杜瓦真空夹层厚度仅有3 mm.文中讨论了它的设计原理,并从工艺上提出了保证设计要求的注意事项,最后给出了测试结果.
  • 作者: 汪力 王旭迪 胡焕林 黄长杰
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年4期
    页码:  49-51
    摘要: 用CF4/CHF3作为工作气体对石英和BK7玻璃进行了研究,分析了气体组分、气体流量和射频偏压等几种因素对刻蚀速率的影响,结果表明刻蚀速率与射频偏压的均方根成正比.在1 CF4∶1CHF3的...
  • 作者: 李卫国 罗日成
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年4期
    页码:  52-55
    摘要: 真空开关内部气体压力是决定其电气性能的主要因素,灭弧室气体压力的劣化将降低真空开关耐受系统电压的能力.本文利用自行开发的电场探头研究了真空开关屏蔽罩电位的有效值与真空度之间的关系,得出了相应...
  • 作者: 列汝枢 单帝强
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年4期
    页码:  56-61
    摘要: 给出了长方体卧式真空罐的基本结构以及在真空外压作用下对罐体、罐盖所造成的危险部位及其应力,并对危险部位进行安全评价.
  • 作者: 张以忱
    刊名: 真空
    发表期刊: 2005年4期
    页码:  62-64
    摘要:

真空基本信息

刊名 真空 主编 陆国柱
曾用名 真空技术报导
主办单位 中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所  主管单位 机械工业部期刊管理办公室 中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所
出版周期 双月刊 语种
chi
ISSN 1002-0322 CN 21-1174/TB
邮编 110042 电子邮箱 zkzk@chinajournal.net.cn
电话 024-24134406 网址 www.vacjour.cm
地址 辽宁省沈阳市万柳塘路2号

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期刊荣誉
1. 中国期刊网、光盘国家工程中心用刊
2. 工程技术类核心期刊

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