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真空
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本杂志是中国真空界主要杂志之一。自1994年真空杂志转换经营机制以来，由我国真空企业界实力雄厚的厂家与杂志社联办成立董事会，并由真空学术界著名学者组成编委会。社会效益与经济效益与日俱增，在国内真空界享有盛誉。自1989年公开发行以来，被美国、英国、德国、日本、意大利、韩国以及港澳地区越来越多的海外学者所关注。
主办单位：
中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所
期刊荣誉：
中国期刊网、光盘国家工程中心用刊
工程技术类核心期刊
ISSN：
1002-0322
CN：
21-1174/TB
出版周期：
双月刊
邮编：
110042
地址：
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2692
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1. 可凝性气体抽除的一些措施刊名： 真空发表期刊： 2011年4期页码:摘要： 本文详细叙述了抽除可凝性气体时所利用的两种抽气设备,即气镇泵与冷凝器.首先介绍了可凝性气体的形成、饱和状态、汽化与凝结.讨论了油封机械泵抽除可凝性气体对泵性能所造成的不良影响及其防止的措施,...
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2. 信息动态刊名： 真空发表期刊： 2011年4期页码:摘要：
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刊名： 真空发表期刊： 2011年4期页码:摘要： EAST-NBI真空空间粒子分布状态是影响中性束再电离损失的重要因素,是研究EAST-NBI系统的结构设计和提高加热效率的重要课题.根据EAST-NBI的工作原理、结构特点以及系统的气源特性...
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刊名： 真空发表期刊： 2011年4期页码:摘要： 空气射流器是长途客车车载真空厕所系统的核心部件,一定压力的压缩空气通过空气射流器将产生抽吸便器内污水所需的真空.以空气射流器为研究对象,利用FLUENT商业软件对其内部流场进行数值模拟.分析...
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刊名： 真空发表期刊： 2011年4期页码:摘要： 针对粒径1mm～ 10mm的砂土物料,设计了一套真空吸送装置.在真空吸送装置中,分离系统用于将物料颗粒从气固两相流中分离出来.介绍了砂土物料真空吸送分离系统的设计原则,运用计算流体动力学软件...
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刊名： 真空发表期刊： 2011年4期页码:摘要： 低温真空泵作为一种高比抽气速率和极洁净的高真空泵,在很多科研和工业加工方面的应用越来越广泛.一般低温真空泵大多以G-M制冷机作为冷源.本文针对G-M制冷机中的二级密封作用进行了实验研究,结果...
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7. 滑阀真空泵性能再探刊名： 真空发表期刊： 2011年4期页码:摘要： 本文对滑阀真空泵的性能作了进一步研究,提出了活动密封的新概念,研究了排气速度、排气流道大小和形状对泵的性能的影响,阐明了滑阀泵噪声机理研究中的又一个新噪声源——导轨对滑阀杆的撞击,分析了泵的...
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刊名： 真空发表期刊： 2011年4期页码:摘要： 本文介绍DL-6A型电阻真空计的误差.DL-6A型电阻真空计测量范围是10-1～105 Pa,在10～5×103 Pa,误差为10%,在小于10 Pa和大于5×103 Pa误差为35%.
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刊名： 真空发表期刊： 2011年4期页码:摘要： 本文介绍了一种基于C8051F微控制器并应用于电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)的真空测量系统.系统由真空计组、预处理电路、C8051F微控制器、串行接口和上位机组成,能同时测量接口、透...
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10. 基于光纤通讯的真空镀膜控制系统刊名： 真空发表期刊： 2011年4期页码:摘要： 本文针对镀膜的特殊要求,通过分析传统控制方式的不足,提出了新型的控制方式,即光纤通讯.以成都普斯特真空镀膜控制系统为例,介绍了该系统的软硬件配置,工作原理,主要控制功能,应用效果以及光纤通讯...
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刊名： 真空发表期刊： 2011年4期页码:摘要： 高功率脉冲磁控溅射( HPPMS)以其在真空镀膜上更大的优势而越来越受到重视,高压大电流电源是实现HPPMS的关键因素.本文研制了1000 A高功率脉冲磁控溅射电源,给出了电源框架图和主电路...
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刊名： 真空发表期刊： 2011年4期页码:摘要： 通过对检漏仪的通讯原理的分析,介绍了 ZQJ-291检漏仪在真空检漏设备数据采集系统中的应用.针对提高真空检漏设备的自动化水平的目标,详细阐述了ZQJ-291检漏仪终端软件的开发思路及关键功...
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刊名： 真空发表期刊： 2011年4期页码:摘要： 等离子体交叉场调制开关(简称PCMS管)采用外加磁场的设计,基于冷阴极潘宁放电原理产生等离子体.本文应用基于有限元法的多物理场仿真模拟软件Ccmsol 4.0对PCMS管器件模型进行二维建模...
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刊名： 真空发表期刊： 2011年4期页码:摘要： 铜丝可用于尿毒症患者腹膜透析置管术中的替代导丝.为了减少或消除铜离子对生物组织的损 害,增加铜丝表面的生物相容性,同时又保持铜丝较好的塑性变形能力,本文采用电弧离子镀工艺在铜丝 上沉积T...
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刊名： 真空发表期刊： 2011年4期页码:摘要： 用直流/射频反应磁控共溅射法分别在玻璃和单晶硅片基底上制备VOx薄膜和W掺杂VOx薄膜,经退火后,对薄膜进行电阻-温度特性、XRD、表面形貌等测试.结果表明:当溅射气压为1.5 Pa、氧氩比...
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16. 本征微晶硅薄膜孵化层的深入研究刊名： 真空发表期刊： 2011年4期页码:摘要： 采用VHF-PECVD技术沉积微晶硅薄膜,获得较高的生长速度,但是薄膜质量较差,这与初始生长过程中生成厚的非晶孵化层关系密切.本研究表明,孵化层的厚度与硅烷浓度、功率密切相关:低的硅烷浓度,...
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刊名： 真空发表期刊： 2011年4期页码:摘要： 采用直流热阴极等离子体化学气相沉积( PCVD)技术,通过在CHJ/H2的混合反应气源中通入不同流量的N2,合成了掺氮纳米金刚石薄膜.结果表明随着氮气流量的增加,金刚石薄膜表面形貌发生明显变...
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刊名： 真空发表期刊： 2011年4期页码:摘要： 采用中频反应磁控溅射孪生靶在玻璃基体上沉积TiO2薄膜.沉积过程中采用多路送气和等离子体发射光谱监测控制系统,使整个反应溅射过程维持在“过渡区”,从而快速稳定获得均匀高质量的TiO2薄膜,沉...
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19. 第十七讲薄膜与表面技术基础刊名： 真空发表期刊： 2011年4期页码:摘要：
真空基本信息
| 刊名 | 真空 | 主编 | 陆国柱 |
| 曾用名 | 真空技术报导 | ||
| 主办单位 | 中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所 | 主管单位 | 机械工业部期刊管理办公室 中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所 |
| 出版周期 | 双月刊 | 语种 |
chi
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| ISSN | 1002-0322 | CN | 21-1174/TB |
| 邮编 | 110042 | 电子邮箱 | zkzk@chinajournal.net.cn |
| 电话 | 024-24134406 | 网址 | www.vacjour.cm |
| 地址 | 辽宁省沈阳市万柳塘路2号 |
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