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真空科学与技术学报2011年出版文献
出版文献量（篇）
4084
总下载数（次）
3
总被引数（次）
19905
真空科学与技术学报
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本刊是全国中文核心期刊，长期被EI、CA、SA等国际蓍名检索系统收录，已全文上网。本刊通过中国图书贸易总公司代理向国外发行。目前在美国、英国、德国、荷兰及我国的香港与台湾地区均有订阅，有一定的影响力。在国内各高等院校科学院所涉及到真空科学与技术论文都大多数向本刊投稿，已成为国内外关学者发表高水平科研成果的主要载体。
主办单位：
中国真空学会
ISSN：
1672-7126
CN：
11-5177/TB
出版周期：
月刊
邮编：
100022
地址：
出版文献量（篇）
4084
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19905
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2011年5期页码:摘要： 为ITER CC 10 kA高温超导电流引线服务的低温性能测试装置已研制完成,并成功运行.其低温系统主要由500W/4.5 K氦制冷机,真空杜瓦,低温组件(低温阀门,过冷槽,管道加热器,热防...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2011年5期页码:摘要： 国际热核聚变实验堆磁体馈线系统是连接杜瓦内部的磁体线圈和杜瓦外部之间的冷源、电源以及控制系统的重要通道,其主要作用是为磁体线圈供电、冷却和测量控制诊断.本文通过理论传热计算、利用有限元分析软...
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123. 三间隙耦合输出回路间隙阻抗频率特性的测量刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2011年5期页码:摘要： 从多端口微波网络等效的角度,讨论多间隙耦合输出回路间隙阻抗频率特性的测试问题,并以X波段三间隙耦合输出回路为例,分别从模拟测量和实际测量两个方面确定了其间隙耦合阻抗的频率特性,简化了测量过程...
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124. 微波管电子光学模拟器新进展刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2011年5期页码:摘要： 电子光学模拟器(Electron Optics Simulator,EOS)是微波管模拟器套装的重要组成部分.EOS是一个用于模拟设计微波管中轴对称电子枪、栅控电子枪、多注电子枪、带状注电子...
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125. Ti-Mo吸气材料的性能特征研究刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2011年5期页码:摘要： 为了研究Ti-Mo吸气材料的性能特征,采用粉末冶金工艺制备了Ti-Mo7.5％(质量比)吸气材料.研究了该材料的结构特征,在不同激活温度、不同工作温度下的吸氢性能特征,对比了该材料对H2,H...
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126. 静电悬浮加速度计与真空有关的噪声分析刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2011年5期页码:摘要： 从麦克斯韦速率分布函数和克努曾的“吸附层”假说出发,推导出静电悬浮加速度计核心部分因辐射计效应和残余气体平衡态阻尼引入的加速度热噪声表达式.指出辐射计效应是加速度计噪声的一个重要来源,气体阻...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2011年5期页码:摘要： 采用预制膜硒化两步法制备CIGSe薄膜,采用X射线衍射方法分析薄膜的结构,采用荧光光谱分析和俄歇电子能谱分析方法检测分析薄膜的成分.研究结果表明CIGSe薄膜中Ga元素以置换原子的形式存在于...
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128. WSe2纳米片的合成及其摩擦学性能研究刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2011年5期页码:摘要： 利用固相反应法在真空石英管中制备出了具有无机类纳米片层状结构的WSe2.对所合成的纳米材料分别用扫描电子显微镜、透射电子显微镜进行表征并对生长机理进行了分析；将其以不同质量分数分散到基础油H...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2011年5期页码:摘要： 在3.2mm厚的低铁玻璃衬底上采用金属Al靶在溅射气体Ar和反应气体H2的混合气体中,真空磁控反应溅射沉积半透明的Al-AlN金属陶瓷薄膜.再将沉积该薄膜的玻璃试样浸入沸腾的去离子水中,经一...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2011年6期页码:摘要： 利用直流磁控溅射法在室温玻璃衬底上制备出了可见光透过率高、电阻率低的掺锰氧化锌(ZnO:Mn)透明导电薄膜.实验制备的ZnO:Mn为六方纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有垂直于衬底方向的c轴择优取...
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131. 无支撑、光学级MPCVD金刚石膜的研制刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2011年6期页码:摘要： 利用引进的6kW微波等离子体化学气相沉积设备,进行了无支撑金刚石膜工艺的初步研究.在800～I050℃的基片温度范围内,金刚石膜都呈(111)择优取向；基片相对位置对沉积较大面积、光学级金刚...
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132. 溅射SmCo基永磁薄膜的结构和磁性能研究刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2011年6期页码:摘要： 以Sm(Co0.62Fe0.25Cu0.1Zr0.03)7.5合金为靶材,采用磁控溅射工艺在单晶Si基片上沉积了SmCo基永磁薄膜.研究了溅射工艺参数对薄膜的晶体结构、微观结构和磁性能的影响...
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133. 磁控溅射法制备CdS多晶薄膜工艺研究刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2011年6期页码:摘要： 采用磁控法制备了CdS薄膜,研究工艺参数对样品沉积质量、沉积速率及晶体结构的影响.实验发现,在不同衬底上制备CdS薄膜时需要采取不同的后续工艺措施以获得较好的沉积质量.同时,制备样品的沉积速...
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134. 铁改性锐钛矿型TiO2降解有机物试验刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2011年6期页码:摘要： 研究以Fe3+改性TiO2光催化剂对有机物的处理效果,确定了它对甲醛溶液的光催化降解工艺条件.结果表明:所制备的Fe3+改性TiO2为锐钛矿型TiO2(A-TiO2).可见光照射下,用自制的...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2011年6期页码:摘要： 应用电弧离子镀技术,在不同的氮气分压(0.5～2.5 Pa)和脉冲偏压(O～-300 v)条件下对TC4基体沉积CrNx薄膜,采用扫描电镜和透射电镜对镀膜过程中产生的熔滴现象进行分析研究.结...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2011年6期页码:摘要： 采用不同Al含量的AlCr合金靶,在高速钢(M2)上通过直流反应磁控溅射的方式沉积不同的CrAlN涂层；分别用EDS、XRD、纳米压痕仪、高速往复摩擦磨损试验机和台阶仪测量出涂层的化学成分、...
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137. 镶嵌结构界面金刚石涂层研究进展刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2011年6期页码:摘要： 对平面结构和镶嵌结构界面金刚石涂层的界面结构特点、受弯曲应力应变时的失效方式进行了分析,指出镶嵌结构界面金刚石涂层是提高膜/基体结合力的有效方法；综述了镶嵌结构界面金刚石涂层的国内外研究现状...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2011年6期页码:摘要： 采用Langmuir探针对两种不同非平衡度磁场环境中(K值分别为2.78和6.41)的溅射等离子体进行诊断,并使用高斯仪测量靶材表面的磁感应强度,结合靶材表面磁场分布的Ansys软件模拟,分...
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139. 偏压对活性屏离子渗氮工艺的影响刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2011年6期页码:摘要： 通过对40C钢进行活性屏离子渗氮处理,研究了在活性屏离子渗氮工艺过程中工件所加的偏压对渗氮层的影响.试验结果表明,在不加偏压或偏压较低的情况下,对距离活性屏较近的工件,其表面有一定厚度的渗氮...
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140. 疏水性材料的等离子体表面改性工艺研究刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2011年6期页码:摘要： 通过等离子体连续处理仪对疏水性材料表面进行表面改性而提高了其润湿性.研究了不同反应条件对高分子材料表面改性的影响；通过测定样品表面的接触角等性能评价了其表面亲水性的变化.经过等离子体表面处理...
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141. 基于MHD的小间隙真空电弧仿真研究刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2011年6期页码:摘要： 真空开关电弧电流过零前的电弧等离子体状态对真空开关能否顺利开断具有十分重要的影响.本文在建立小间隙真空电弧磁流体动力学(MHD)模型的基础上,采用通用计算流体力学仿真软件对电弧电流过零前0....
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142. 一种通信应用中的X波段行波管预失真器刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2011年6期页码:摘要： 随着通信技术的发展,行波管功率放大器预失真电路显得日益重要.不过,目前预失真电路在调节过程中增益和相位扩张量不能独立调节,很难保证增益和相位同时满足线性化指标的要求,给调节工作带来了困难.本...
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143. 采用光子晶体的行波管慢波结构高频特性研究刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2011年6期页码:摘要： 提出了一种采用光子晶体作为行波管慢波结构屏蔽筒的新方案,论证了方案的可行性,并进行了模式分析.在充分研究光子晶体禁带特性的基础上,计算了光子晶体慢波结构的色散特性和耦合阻抗,对计算结果的分析...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2011年6期页码:摘要： 强流电子注速度测量及分析对真空电子器件的研究与设计具有重要的意义.本文提出了一种利用圆柱形结构的电容性感应探针进行非拦截式强流电子注轴向平均速度测量的方法,通过对电子注电流及其空间电荷效应感...
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145. 场发射冷阴极电离规的研究进展刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2011年6期页码:摘要： 碳纳米管冷阴极具有优异的场致电子发射特性,在电子源应用方面具有很好的前景,被认为是很有希望取代热阴极的材料之一.本文回顾了20多年来场发射冷阴极电离规的发展.内容包括微尖型场发射阴极电离规和...
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146. 反应溅射制备AlN薄膜靶中毒机制的研究刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2011年6期页码:摘要： 反应磁控溅射方法制备AlN薄膜是一种很普遍的方法,但采用该方法制备在衬底上形成符合计量比的AlN化合物时,在靶材表面也会形成该化合物.这就是所谓的靶中毒现象,该现象会导致溅射产额降低从而引起...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2011年6期页码:摘要： 采用单辊快淬法制备了( Fe5o Ni50) 77.5 Cro.5 Si11B11合金薄带,测试了淬态薄带样品的微结构、静磁性能、磁导率和磁阻抗.研究结果表明,未经热处理的淬态(Fe5oNi...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2011年6期页码:摘要： 研究了NbSe2的添加对铜-石墨固体自润滑材料的影响,采用粉末冶金法将制备的不同质量百分比含量的纤维状或片层状的纳米NbSe2材料与铜粉、石墨粉混合均匀,冷压制成小圆盘.采用光学显微镜,SE...
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149. 金刚石CVD金属化及其应用刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2011年6期页码:摘要： 为了提高金刚石表面浸润性和焊接性,使金刚石与胎体实现牢固冶金结合,采用金刚石化学气相沉积(CVD)表面金属化的方法来改善金刚石表面性质.通过扫描电镜和能谱分析仪对金刚石表面金属化层进行表面形...
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150. 氧化硅衬底上高密度锗量子点的微结构研究刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2011年6期页码:摘要： 以化学氧化生成的SiO2缓冲层作为衬底,利用分子束外延(MBE)系统通过直接生长以及后期退火的方式获得了高密度(1011 cm-2)的锗量子点结构.借助于扫描电镜和电子衍射等进一步研究了其生...
真空科学与技术学报基本信息
| 刊名 | 真空科学与技术学报 | 主编 | 吴锦雷 |
| 曾用名 | 真空科学与技术 | ||
| 主办单位 | 中国真空学会 | 主管单位 | 中国科学技术协会 |
| 出版周期 | 月刊 | 语种 |
chi
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| ISSN | 1672-7126 | CN | 11-5177/TB |
| 邮编 | 100022 | 电子邮箱 | vst@chinesevacuum.com |
| 电话 | 010-58206280 | 网址 | |
| 地址 | 北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室 |
真空科学与技术学报评价信息
该刊被以下数据库收录
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| 2. | 中国科学引文数据库 |
| 3. | 日本科学技术振兴机构数据库(日) |
| 4. | 中国科技论文统计与引文分析数据库 |
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