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硅的反应离子刻蚀工艺参数研究
反应离子刻蚀
刻蚀速率
优化工艺参数
内容分析
关键词云
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文献信息
篇名 硅化钛薄膜的反应离子刻蚀技术
来源期刊 薄膜科学与技术 学科 工学
关键词 硅化钛 薄膜 反应离子刻蚀
年,卷(期) 1990,(2) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 52-57
页数 6页 分类号 TN304.055
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DOI
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1990(0)
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研究主题发展历程
节点文献
硅化钛
薄膜
反应离子刻蚀
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
薄膜科学与技术
双月刊
南京1601信箱43分箱
出版文献量(篇)
327
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