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摘要:
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Al掺杂ZnO薄膜的射频磁控溅射工艺与光电性能研究
ZAO薄膜
射频磁控溅射
溅射时间
退火
光电性能
磁控溅射沉积U薄膜性能研究
U薄膜
组织
结构
密度
磁控溅射对薄膜附着力的影响
磁控溅射
附着力
综述
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
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(/年)
文献信息
篇名 采用高频磁控溅射工艺试制低TCR的Ni—Cr薄膜电阻
来源期刊 混合微电子技术 学科 工学
关键词 磁控溅射 Ni-Cr 薄膜电阻
年,卷(期) 1992,(3) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 34-37,33
页数 5页 分类号 TM544
字数 语种 中文
DOI
五维指标
传播情况
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1992(0)
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研究主题发展历程
节点文献
磁控溅射
Ni-Cr
薄膜电阻
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
混合微电子技术
季刊
安徽省合肥市6068信箱(合肥市绩溪路260号)
出版文献量(篇)
1458
总下载数(次)
46
总被引数(次)
0
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