自动投影光刻机

• 作者: 袁君毅
• 来源期刊: LSI制造与测试
• 学科: 工学
• 关键词: 硅片 光刻 投影 曝光
• 年，卷（期）: 1996,（6）
• 页码范围: 14-21
• 页数: 8页
• 分类号: TN304.12

摘要

直接在硅片上分步重复曝光的自动投影光刻机，是目前１Ｍ、４ＭＤＲＡ及更高集成度各种超大规模集成电路生产的主流光刻工具，本文简要介绍深圳丰德微电子有限公司以引进，消化，吸收与单元技术相结合的方式，进行１微米实用线宽自动投影光刻机的研制及工艺衫化试验的情况，开发如何与集成电路生产，研究相结合。促进共同扫展等谈一些体会和看法。

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1	袁君毅		1	0	0.0	0.0