向生产价值的30nm光刻协合渐进

• 作者: Daniel R.Cote James A.Mc Clay Noreen Harned 童志义
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 年，卷（期）: 2000,（3）
• 所属期刊栏目: 专题译文
• 页码范围: 44-52
• 页数: 9页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 5989字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2000.03.008

摘要

提出了对现代光刻设备性能数据和系统预先筹划和配置,并在此基础上讨论了对关键性能方面进一步开发的方法和模式,同时还讨论了关于这些模式性能的支持分析结果.