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摘要:
对即将动工的上海第三代同步辐射装置(SSRF)及其主要参数作了介绍.叙述了目前同步辐射x射线光刻和LIGA的一些技术进展情况,并对未来SSRF光刻/LIGA实验站的应用前景作了简要分析.
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文献信息
篇名 上海第三代同步辐射装置及其在光刻和LIGA中的应用
来源期刊 半导体技术 学科 工学
关键词 第三代同步辐射光源 x射线光刻 LIGA
年,卷(期) 2000,(1) 所属期刊栏目 综述
研究方向 页码范围 11-13
页数 分类号 TN305
字数 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1003-353X.2000.01.004
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 叶甜春 中国科学院微电子中心三室 200 911 14.0 18.0
2 谢常青 中国科学院微电子中心三室 50 258 9.0 12.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
第三代同步辐射光源
x射线光刻
LIGA
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体技术
月刊
1003-353X
13-1109/TN
大16开
石家庄179信箱46分箱
18-65
1976
chi
出版文献量(篇)
5044
总下载数(次)
38
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