低温p-Si薄膜的制备研究

• 作者: 付国柱 刘传珍 荆海 邱法斌
• 来源期刊: 世界电子元器件
• 学科: 工学
• 年，卷（期）: 2001,（11）
• 所属期刊栏目: 专题报道
• 页码范围: 11-12
• 页数: 2页
• 分类号: TN27
• 字数: 2575字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-7604.2001.11.004

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	荆海	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	11	54	5.0	6.0
5	刘传珍	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	3	10	2.0	3.0
7	付国柱	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	4	15	3.0	3.0
11	邱法斌	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	4	16	3.0	4.0