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摘要:
在半导体制造中,光刻胶是重要的原材料之一.本文从转速与膜厚、感光灵敏度、图形变化差等方面对ORM-85光刻胶进行了研究,得出了用于大生产的一套工艺.解决了接触式曝光方式粘版的问题及提高了产能.
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化学放大光刻胶
分子玻璃
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 OMR-85光刻胶的研究与应用
来源期刊 微电子技术 学科 工学
关键词 光刻胶 感光灵敏度 图形变换差 接触式曝光
年,卷(期) 2002,(3) 所属期刊栏目 产品与应用
研究方向 页码范围 51-53
页数 3页 分类号 TN304
字数 2111字 语种 中文
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2006(1)
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研究主题发展历程
节点文献
光刻胶
感光灵敏度
图形变换差
接触式曝光
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
微电子技术
双月刊
1008-0147
32-1479/TN
16开
江苏省无锡市
1972
chi
出版文献量(篇)
322
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