脉冲激光气相沉积技术及其在ICF薄膜靶制备中的应用

• 作者: 吴卫东 唐永建 许华 陈正豪 魏胜
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 脉冲激光气相沉积 ICF 靶制备
• 年，卷（期）: 2002,（6）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 873-876
• 页数: 4页
• 分类号: TL639.11
• 字数: 2614字
• 语种: 中文

摘要

在ICF实验及天体物理的辐射不透明实验中,经常用到多层薄膜靶,激光脉冲气相沉积(PLD)技术是制备多层薄膜靶的较好方法.论述了PLD技术的原理、实验方法和装置的设计,用该方法初步制备了原子级光滑的Cu及Cu/ Fe薄膜.Cu薄膜的均方根粗糙度为0.2nm,Fe薄膜的均方根粗糙度为0.4nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	唐永建	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	281	2334	24.0	31.0
2	吴卫东	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	140	1087	18.0	26.0
3	魏胜	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	22	160	8.0	12.0
4	许华	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	23	287	9.0	16.0
5	陈正豪	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	2	47	2.0	2.0